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真空镀膜设备蒸发镀原理

发表时间:2019/10/12 14:39:43

回顾下蒸发镀膜法的由来:在1960年湃澎霍夫对这一方面的研究提出使用,其原理是利用密封的设备把洁净的耙材进行电阻加热到蒸发的温度以上,在真空环境下均匀的沉积在产品表面达到预定要求的过程。在蒸发的过程中可以根据所需工艺要求改变蒸发的速度和电流等。

真空蒸发镀膜从开始到结束需经过以下流程:

一、利用大电流产生高热能融化膜材使之升华或者蒸发成为具有能量的气态粒子;

二、升华或蒸发后的能量粒子离开膜材并输运到待镀产品;

三、到达待镀产品后的能量粒子凝聚在产品表面并固化成薄膜;

薄膜原子重组排列完成覆膜。

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